Soczewki zostały pokryte unikalną powłoką Fujifilm HT-EBC (High
Transmittance Electron Beam Coating) na całej powierzchni, aby
zminimalizować występowanie tzw. duszków i efektu flary oraz zwiększyć
ostrość i wyrazistość zdjęć. Ponadto zastosowanie nowo opracowanej
powłoki Nano-GI (Gradient Index), która zmienia współczynnik załamania
światła między szkłem a powietrzem, pozwoliło ograniczyć wspomniane
duszki i efekt flary w przypadku światła padającego ukośnie.
Obiektyw zapewnia jeszcze lepsze rezultaty po podłączeniu go do korpusu aparatu z serii X* wyposażonego w optymalizator modulacji obiektywu** . Optymalizator ten koryguje rozmycie dyfrakcyjne***, zapewniając ostrość na całej powierzchni kadru i realistyczny efekt 3D nawet przy niskim ustawieniu przysłony.
Ponadto zmniejszenie masy soczewki skupiającej i zamontowanie podwójnego
silnika liniowego pozwoliło dodatkowo przyspieszyć i wyciszyć pracę
autofokusa. Największe przyspieszenie autofokusa rzędu 0,06 sekundy
można uzyskać, montując obiektyw w jednym z aparatów z serii X*4,
które obsługują autofokus z detekcją fazową. Migawka w tych aparatach
pracuje niemal bezszelestnie, co pozwala robić zdjęcia w sytuacjach, w
których należy zachować ciszę.
Dzięki uszczelnieniom w każdej części obudowy obiektyw jest odporny na
warunki pogodowe, kurz i mróz do -10°C, przez co idealnie nadaje się do
aparatu FUJIFILM X-T1, który cechuje taka sama odporność.
602 706 706
Canon
Sony E-mount 
